日本エー・エス・エム株式会社

会社情報

日本エー・エス・エム株式会社

事業内容 ■事業内容:
・半導体製造装置(プラズマCVD装置、プラズマALD装置、減圧CVD装置、エピタキシャル製造装置等の薄膜成形装置)の開発製造を行う精密機器製造企業です。
・成膜装置を扱う前工程事業では、プラズマALD装置とエピタキシャル成長装置で業界上位、プラズマCVD装置、縦型減圧CVD装置で業界上位のマーケットシェアを誇ります。また、近年注目されているハフニウムを利用したゲート絶縁膜(High-k)の開発分野では先駆的な存在となっています。
・オランダ、アメリカ、日本を前工程の主要拠点として位置付け、各装置の研究開発を行っています。また、シンガポールにグループ共通の製造工場を持っています。等
所在地 東京都多摩市永山6-23-1
代表者 吉田 富徳
設立 1982年6月
資本金 4,600百万円
従業員数/平均年齢 212名/42.5歳

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